今天，中威公司宣布，其電容耦合高能等離子體刻蝕設備的第2000個反應器成功交付給國內某半導體廠商。
眾美公司指出，該批次出貨的CCP蝕刻設備反應平臺包括Primo AD—RIE和Primo HD—RIE系列產品Primo AD—RIE—e是第二代介質刻蝕產品Primo AD—RIE的子產品，將應用于5 nm及以下前段和中段掩膜層刻蝕的開發和量產
交付的Primo HD—RIE批次具有六個單反應腔系統，旨在為中高縱橫比蝕刻提供全面的解決方案據中微介紹，Primo HD—RIE在刻蝕3D—NAND和DRAM的高深寬比溝槽和深孔方面表現優異，在一些關鍵工藝上已經量產
據本站介紹，數據顯示，2022年上半年，中威公司新簽金額同比增長61.83%至30.57億元，營業收入同比增長47.30%至19.72億元，扣非歸母凈利潤同比增長615.26%至4.41億元，其中蝕刻設備收入12.99億元，同比增長
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